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前烘潔凈烘箱，半導(dǎo)體工藝烤箱，用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤，強(qiáng)制送風(fēng)循環(huán)方式。

半導(dǎo)體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。箱內(nèi)空氣封閉自循環(huán)。經(jīng)耐高溫高效空氣過(guò)濾器過(guò)濾，使烘箱工作室內(nèi)處于無(wú)塵狀態(tài)。

半導(dǎo)體工藝潔凈烘箱，百級(jí)無(wú)塵烘箱具有*設(shè)計(jì)的強(qiáng)鼓風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)確保了溫度的穩(wěn)定性，高效循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)確保箱內(nèi)的潔凈度,控溫裝置采用 PID 數(shù)顯控溫（可選觸摸屏等），直觀(guān)醒目，設(shè)有可靠性保護(hù)裝置。

HMDS烘箱，半導(dǎo)體工藝HMDS設(shè)備有可自動(dòng)吸取添加HMDS功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

RTP快速退火爐，快速熱處理設(shè)備（RTP）簡(jiǎn)介 快速熱處理設(shè)備（RTP）可用于砷化鎵、硅以及其他半導(dǎo)體材料，離子注入后的退火、硅化物的形成、歐姆接觸制備以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP快速退火爐，快速熱處理設(shè)備（RTP）具有快速升降溫、慢速升降溫、和長(zhǎng)工作時(shí)間穩(wěn)定等特點(diǎn)。也可用于各種半導(dǎo)體材料的CVD工藝的熱處理。

等離子去膠機(jī)，等離子表面處理機(jī)采用國(guó)內(nèi)*射頻源，其電磁兼容性能優(yōu)良、高頻輻射小，符合國(guó)家環(huán)保規(guī)定。本機(jī)外形美觀(guān)大方，操作簡(jiǎn)便。等離子去膠機(jī)，半導(dǎo)體工藝表面處理機(jī)適于對(duì)基片進(jìn)行去膠、清洗等工藝。該設(shè)備具有去膠工藝簡(jiǎn)單、可靠、*、速率快、成品率高、處 理后無(wú)酸氣廢水等殘留等特點(diǎn)。

等離子清洗機(jī),等離子表面處理儀是一種表面處理設(shè)備， 用氣體作為處理介質(zhì)，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)以電能將氣體轉(zhuǎn)換為化學(xué)反應(yīng)性和活性很高的氣體等離子體，等離子體對(duì)固體樣品表面進(jìn)行相互作用，引起分子結(jié)構(gòu)改變，從而對(duì)樣品表面的有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗和使樣品表面改性，以獲得希望的表面特性。