抗黏劑蒸鍍機(jī) 抗粘劑涂膠機(jī) 硅烷氣相鍍膜機(jī)通過(guò)精確控制烘箱溫度(100-200℃)、處理時(shí)長(zhǎng)及保持時(shí)間等參數(shù),使氮烷(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三氯硅烷)沉積在襯底表面,生成疏水性的保護(hù)層,,將親水基片轉(zhuǎn)化為疏水性。該過(guò)程有效增大處理后的基片接觸角,減少光刻膠使用量約30%,同時(shí)提升膠層與基片的黏附強(qiáng)度?。
抗粘劑蒸鍍機(jī) 硅烷鍍膜機(jī) 氣相沉積系統(tǒng) 硅烷偶聯(lián)劑(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等)作為一類(lèi)重要的有機(jī)硅化合物,在材料表面改性、復(fù)合材料增強(qiáng)、涂層制備等眾多領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用。
疏水處理設(shè)備 疏水性處理系統(tǒng) HMDS預(yù)處理是一種改善物體表面性質(zhì)的技術(shù),使其具有疏水性,即不易被液體濕潤(rùn)。
表面疏水性處理設(shè)備 陶瓷玻璃疏水處理機(jī)通過(guò)氣相涂布硅烷偶聯(lián)劑HMDS實(shí)現(xiàn)陶瓷表面疏水性能的提高,陶瓷表面接觸角為118?135度,且疏水材料與陶瓷基體的的附著性能好。
納米陶瓷材料表面疏水HMDS處理系統(tǒng)生產(chǎn)工藝周期短,提高生產(chǎn)效率; 修飾液用量極少,節(jié)約成本90%; 閉環(huán)的工藝過(guò)程,安全系數(shù)高。
HMDS氣相成底膜烘箱 真空HMDS氣相烘箱在晶圓上行噴涂hmds預(yù)處理的工藝,將晶圓表面親水性的置換為疏水性的,使晶圓表面接觸角達(dá)到65或更高。