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抗黏劑蒸鍍機(jī) 抗粘劑涂膠機(jī) 硅烷氣相鍍膜機(jī)通過精確控制烘箱溫度（100-200℃）、處理時(shí)長(zhǎng)及保持時(shí)間等參數(shù)，使氮烷（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三氯硅烷）沉積在襯底表面，生成疏水性的保護(hù)層，，將親水基片轉(zhuǎn)化為疏水性。該過程有效增大處理后的基片接觸角，減少光刻膠使用量約30%，同時(shí)提升膠層與基片的黏附強(qiáng)度?。

抗粘劑蒸鍍機(jī) 硅烷鍍膜機(jī) 氣相沉積系統(tǒng) 硅烷偶聯(lián)劑（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等）作為一類重要的有機(jī)硅化合物，在材料表面改性、復(fù)合材料增強(qiáng)、涂層制備等眾多領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用。

智能型HMDS涂膠機(jī)，自動(dòng)HMDS涂膠鍍膜機(jī)也稱為HMDS處理，是用于使晶片表面呈疏水性的處理。

HMDS涂膠機(jī)，智能型HMDS涂 膠機(jī)將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

光刻工藝HMDS鍍膜機(jī)，MOS器件HMDS鍍膜 機(jī)涂布工藝是改善晶圓表面接觸角的關(guān)鍵步驟。

抗粘劑蒸鍍機(jī)，抗粘層鍍膜機(jī)在基片與彈性支撐層之間還形成有抗黏層，抗黏層一般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。

HMDS涂布機(jī)，HMDS涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理， HMDS 涂布的原理，較常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷（HMDS）。在提升光刻膠的黏附性工藝中，實(shí)際上六甲基二硅烷并不是作為粘結(jié)劑所產(chǎn)生作用的，而是HMDS 改變了 SiO2 的界面結(jié)構(gòu)，從而使晶圓的性質(zhì)由親水性表面轉(zhuǎn)變?yōu)槭杷员砻妗?/p>